内容游戏背景 武汉某半导体行业厂产出操作过程中另外导致高硅化工污废水处理 （SiO₂ 500-800mg/L）和含氟化工污废水处理 （F⁻ 200-300mg/L）。多种化工污废水处理 分层时易养成氟硅酸氢氧化铁，以往化学水解法无法保持稳定考核规定。項目规定要求同时去掉硅和氟（排卸规定：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 生产废水化学物质及来源地 主要是物质 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 源于 ：晶圆刻蚀焦化工业废水、CMP精磨焦化工业废水、仪器喷洗水 加工处理方法流量 推进积淀一阶段 ： 两极症状池 ： 第1级污泥脱水Ca(OH)₂转成CaF₂和CaSiO₃沉淀物中； 2.级加药系统PAC（配位聚氯化铝）进阶斜管沉淀池。 固液剥离 的阶段 ： 超滤膜控制系统 ：主要包括0.02μm口径膜模块虚报冒领固体硅和微细发展物。 强度脱氟阶段中 ： 几丁质酶被氧化铁吸附物塔 ：残余物氟正离子离心分离避开。 结果英文功效 留水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远更为重要我国基准。 超滤膜系统通量稳定的在15LMH，电学清洁工作周期性提高至60天。 废水经压滤后水分含量率＜65%，可按通常固废处理救治。